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吸附再生與冷卻過程計算

日期:2012年04月03日 | 09:52 作者:河南銘澤科技 瀏覽:

    一般吸附劑的再生溫度為175~260℃。用分子篩時,再生溫度可高至260~370℃。脫水后干氣露點可降至-100 ℃。再生操作壓力通常與吸附操作壓力相同,偶而采用較低壓力再生以提高被吸附分子的脫附能力。再生過程的溫度變化曲線。吸附劑的再生過程可劃分為A、B、C、D四個階段,在A階段,烴類全部被脫附,水的脫附集中在階段B,階段C主要清除重?zé)N等不易脫附的物質(zhì),增加再生后吸附劑的濕容量,階段D則冷卻床層至吸附溫度。T2≈110℃, T3≈127℃,TB≈116℃,T4≈175~260℃。再生氣體溫度和流量控制了每一階段的時間。